超高纯金属溅射靶材用途

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  超高纯金属溅射靶材主要用于制造半导体器件和集成电路。目前,我国半导体工业已经有了很大的发展,但是由于我们还没有掌握核心技术,所以产品在市场上仍然受到限制。而作为最重要的原料,超高纯金属一直依赖进口。现在我国自己研究出来了,可以生产这种材料,不仅价格便宜,质量也得到保证,更加关键的是可以实现进口替代,对于促进我国半导体行业发展起着至关重要的作用。
中国科学院院士欧阳钟灿:“如果能够做到全部国产化,那么就意味着我们国家的半导体水平会达到世界领先水平”。相信随着我国半导体行业的飞速发展,未来必将取得更好的成绩!

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