中国的光刻机技术目前还不行,因为我们没有足够的人才和资金去研发。但是现在也开始着手研究了,如果成功那么将会引领世界潮流。
中国的光刻机技术目前还不行,因为我们没有足够的人才和资金去研发。但是现在也开始着手研究了,如果成功那么将会引领世界潮流。
目前最先进的光刻机是荷兰 ASML 公司生产的 EUV 光刻机,其工作原理是利用光学曝光系统对硅片表面进行光刻,然后通过掩模版来形成图案。这种光刻机可以实现7nm 的工艺节点,并且已经被用于制造7nm 的芯片。EUV 光刻机主要由曝光系统、掩模版、控制系统等组成。